MEB FEG (à l'ENSAM) : pour l'imagerie SE, BSE, la microanalyse EDS, et les essais in-situ (traction, flexion)

  • Responsable : Sarah BAÏZ
  • Co-formateurs : Thierry MALOT, Frédéric VALES
  • Localisation : Halle 4, salle MEB FEG (H4.0.3)
  • Marque : HITACHI
  • Modèle : 4800-S
  • Année d’acquisition : 2007, grâce au soutien de la Région IDF dans le cadre du programme SESAME 2004, des Arts et Métiers et du CNRS
  • Applications : MEB haute résolution pour réaliser de l’imagerie SE, BSD et analyse chimique semi-quantitative EDS, sur des échantillons conducteurs ou isolants (observation possible à basse tension, sans métallisation préalable)
  • Caractéristiques techniques :
    • MEB à émission de champs (Field Emission Gun)
    • Tensions d’accélération : 0.5-30 kV
    • Grossissement : jusque x 800 000
    • Détecteurs électrons secondaires (SE) et rétrodiffusés (BSE, détecteurs dans la chambre et in-lens)
    • Détecteur EDS pour microanalyse chimique par photons X : THERMO Scientific – Silicon Drift (i.e. sans azote liquide)
    • Imagerie par transmission grâce au montage et détecteurs STEM
    • Caméra infrarouge pour visualiser l’intérieur de la chambre
    • Gamme de mesure en Z : 524 µm (résolution 1 A°)
    • Manuel d’utilisation
    • Fiche sécurité ci-joint (bas de page)

Photo MEB FEG 1

Photo MEB FEG 2
  • Essais mécaniques in-situ :
    • Responsables : Sarah BAÏZJean-Baptiste MARIJON
    • Machine DEBEN, acquise en 2010 
    • Capacité 5 kN
    • Course de déplacement 20 mm
    • Montages disponibles : flexion 3 ou 4 points ; traction (montage en cours de conception)
    • Platine d’essai pouvant être installée sur le MEB ainsi que sur d'autres équipements au laboratoire (microscopes optiques, bancs de diffraction) ou hors du laboratoire (tomographe, synchroton de l'ESRF à Grenoble ...).
    • Guide d’utilisation

Photo flexion











 


MEB TUNGSTENE (à l'ENSAM) : pour l'imagerie SE uniquement

  • Responsables : Sarah BAÏZ
  • Localisation : Halle 4, salle à gauche du MEB FEG (H4.0.2)
  • Marque : PHILIPS / FEI
  • Modèle : XL40
  • Mise en service en 1995, racheté par le PIMM en 2012, remodernisé en 2014.
  • Applications : Imagerie de contrôle uniquement (SE/BSE)
  • Caractéristiques techniques :
    • MEB à filament de Tungstène
    • Tensions d’accélération : 0.2-30 kV
    • Grossissement : jusque x 100 000
    • Détecteurs : SE, BSE (détecteur EBSD transféré depuis début 2020 sur le MEB tungstène ZEISS EVO MA10 du CNAM, plus récent)
    • Caméra infrarouge pour visualiser l’intérieur de la chambre
    • Chambre de grande taille (dimensions intérieures : 379 x 325 x 315 mm)
    • Platine 5 axes (X, Y et rotation motorisés, Z et tilts manuels)
    • Air comprimé : compresseur JUN-AIR OF302-25B
    • Pompage primaire : 2 pompes à vide à palette EDWARDS RV8
    • Secondaire : pompe turbomoléculaire (vide < 4.10-6 mBar)
    • Chambre sur table à coussin d’air
    • OS : WINDOWS XP
    • Manuel d’utilisation
    • Fiche sécurité

Photo XL40













 


MEB TUNGSTENE (au CNAM) : pour les analyses EBSD en priorité

  • Responsable : Sarah BAÏZ
  • Localisation : CNAM Paris
  • Marque : ZEISS
  • Modèle : EVO MA-10
  • Année d’acquisition : 2009, comme support pour la formation continue et la recherche au CNAM
  • Applications : MEB haute résolution pour réaliser de l’imagerie SE, BSD et analyse chimique semi-quantitative EDS, sur des échantillons conducteurs ou isolants (observation possible à basse tension, sans métallisation préalable)
  • Caractéristiques techniques :
    • MEB à filament de Tungstène
    • Imagerie en électrons secondaires (SE) et rétrodiffusés (BSE)
    • Microanalyse chimique EDS par photons X : détecteur BRUKER XFlash 5010
    • Analyse EBSD (détecteur Nordif UF1000 - Résolution 1 µm ; 0.5°- Logiciel TSL OIM Analysis)
    • Platine motorisée 5 axes
    • Hauteur maximale de l'échantillon : 100 mm
    • Grossissement : jusque x 1 000 000
    • Tension d'accélération : 0,2 à 30 kV
    • Courant de sonde : 0,5 pA à 5 μA
    • Manuel d'utilisation
    • Fiche sécurité
  • Métalliseur Or
    • Localisation : salle du MEB au CNAM
    • Marque : EDWARDS
    • Modèle : S510-B
    • Applications : métallisation de surfaces à observer au MEB à tension élevée.
    • Caractéristiques techniques :
      • Injection d’argon possible
      • Pompe EDWARDS E2M2
      • Vitesse de dépôt : ~60 nm/min
      • Table porte-échantillon : Ø 100 mm
      • Cible (cathode) : Or
      • Descriptif technique ci-joint (bas de page)

Livret